產(chǎn) 品 價(jià) 格: 面議
聯(lián) 系 方 式: 陶女士(先生) 027-87993690
聯(lián) 系 人 :陶女士
聯(lián)系電話:18140663476
所在地區(qū):湖北/武漢市
會(huì)員級(jí)別:VIP會(huì)員
企業(yè)類型:企業(yè)單位 (制造商)
MOSFET(金屬—氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管)是一種利用電場(chǎng)效應(yīng)來(lái)控制其電流大小的常見半導(dǎo)體器 件,可 以 廣 泛 應(yīng) 用 在 模 擬 電 路 和 數(shù) 字 電 路 當(dāng) 中 。 MOSFET可以由硅制作,也可以由石墨烯,碳納米管等材料制作,是材料及器件研究的熱點(diǎn)。主要參數(shù)有輸入/輸出特性曲線、閾值電壓 VGS(th)、漏電流IGSS、IDSS,擊穿電壓VDSS、低頻互導(dǎo)gm、輸出電阻RDS等。mos管電性能分析數(shù)字源表高精度IV曲線掃描認(rèn)準(zhǔn)普賽斯儀表咨詢,詳詢18140663476
受器件結(jié)構(gòu)本身的影響,在實(shí)驗(yàn)室科研工作者或者測(cè)試工程師常見會(huì)碰到以下測(cè)試難題:
(1)由于MOSFET是多端口器件,所以需要多個(gè)測(cè)量模塊協(xié)同測(cè)試,而且MOSFET動(dòng)態(tài)電流范圍大,測(cè)試時(shí)需要量程范圍廣,測(cè)量模塊的量程需要可以自動(dòng)切換;
(2)柵氧的漏電與柵氧質(zhì)量關(guān)系極大,漏電增加到一定程度即可構(gòu)成擊穿,導(dǎo)致器件失效,因此MOSFET的漏電流越小越好,需要高精度的設(shè)備進(jìn)行測(cè)試;
(3)隨著MOSFET特征尺寸越來(lái)越小,功率越來(lái)越大,自加熱效應(yīng)成為影響其可靠性的重要因素,而脈沖測(cè)試可以減少自加熱效應(yīng),利用脈沖模式進(jìn)行MOSFET的I-V測(cè)試可以準(zhǔn)確評(píng)估、表征其特性;
(4)MOSFET的電容測(cè)試非常重要,且與其在高頻應(yīng)用有密切關(guān)系。不同頻率下C-V曲線不同,需要進(jìn)行多頻率、多電壓下的C-V測(cè)試,表征MOSFET的電容特性。
使用普賽斯S系列高精度數(shù)字源表、P系列高精度臺(tái)式脈沖源表對(duì)MOSFET常見參數(shù)進(jìn)行測(cè)試。
輸入/輸出特性測(cè)試
MOSFET是用柵電壓控制源漏電流的器件,在某一固定漏源電壓下,可測(cè)得一條IDs~VGs關(guān)系曲線,對(duì)應(yīng)一組階梯漏源電壓可測(cè)得一簇直流輸入特性曲線。MOSFET在某一固定的柵源電壓下所得IDS~VDS關(guān)系即為直流輸出特性,對(duì)應(yīng)一組階梯柵源電壓可測(cè)得一簇輸出特性曲線。 根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)景的不同,MOSFET器件的功率規(guī)格也不一致。針對(duì)1A以下的MOSFET器件,推薦2臺(tái)S系列源表搭建測(cè)試方案,Z大電壓300V,Z大電流1A,最小電流100pA,可以滿足小功率MOSFET測(cè)試的需求。
針對(duì)Z大電流為1A~10A的MOSFET功率器件,推薦采用2臺(tái)P系列脈沖源表搭建測(cè)試方案,其Z大電壓300V,Z大電流10A。
針對(duì)Z大電流為10A~100A的MOSFET功率器件,推薦采用P系列脈沖源表+HCP搭建測(cè)試方案,Z大電流高達(dá)100A。
閾值電壓VGS(th)
VGS(th)是指柵源電壓能使漏極開始有電流的VGS值;測(cè)試儀表推薦S系列源表。
漏電流測(cè)試
GSS(柵源漏電流)是指在特定的柵源電壓情況下流過(guò)柵極的漏電流;IDSS(零柵壓漏極電流)是指在當(dāng)VGS=0時(shí),在指定的VDS下的DS之間漏電流,測(cè)試時(shí)推薦使用一臺(tái)普賽斯S系列或P系列源表;
耐壓測(cè)試
VDSS(漏源擊穿電壓):是指在VGS=0的條件下,增加漏源電壓過(guò)程中使ID開始劇增時(shí)的VDS值;根據(jù)器件的規(guī)格不同,其耐壓指標(biāo)也不一致,測(cè)試所需的儀表也不同,擊穿電壓在300V以下推薦使用S系列臺(tái)式源表或P系列脈沖源表,其Z大電壓300V,擊穿電壓在300V以上的器件推薦使用E系列,Z大電壓3500V。
C-V測(cè)試
C-V測(cè)量常用于定期監(jiān)控集成電路的制造工藝,通過(guò)測(cè)量MOS電容高頻和低頻時(shí)的C-V曲線,可以得到柵氧化層厚度tox、氧化層電荷和界面態(tài)密度Dit、平帶電壓Vfb、硅襯底中的摻雜濃度等參數(shù)。分別測(cè)試Ciss(輸入電容)、Coss(輸出電容)以及Crss(反向傳輸電容)。
分立器件特性參數(shù)測(cè)試是對(duì)待測(cè)器件(DUT)施加電壓或電流,然后測(cè)試其對(duì)激勵(lì)做出的響應(yīng),通常分立器件特性參數(shù)測(cè)試需要幾臺(tái)儀器如數(shù)字萬(wàn)用表、 電壓源、電流源等完成。過(guò)程既復(fù)雜又耗時(shí)。實(shí)施分立器件特性參數(shù)分析的最佳工具就是數(shù)字源表。數(shù)字源表可作為獨(dú)立的恒壓源或恒流源、伏特計(jì)、安培計(jì)和歐姆表,還可用作精密電子負(fù)載,其高性能架構(gòu)還允許將其用作脈沖發(fā)生器、 波形發(fā)生器和自動(dòng)電流-電壓(I-V)特性分析系統(tǒng),支持四象限工作,mos管電性能分析數(shù)字源表高精度IV曲線掃描就找普賽斯儀表,詳詢一八一四零六六三四七六;
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