硅磷晶水處理器 硅磷晶防腐設(shè)備 廣西硅磷晶阻垢設(shè)備

硅磷晶阻垢原理：
YD系列硅磷晶阻垢設(shè)備集防腐、防垢、凈化于一體化的完善設(shè)計(jì)，其內(nèi)部前置核心部分在水流經(jīng)通腔時(shí)，即與水中的陽(yáng)離子（鈣、鎂）發(fā)生絡(luò)合反應(yīng)，釋放出起擾亂作用的介質(zhì)，抑制其晶核的形成，使設(shè)備出水再經(jīng)加熱無(wú)水垢生成。同時(shí)，出水流經(jīng)的設(shè)備、管路內(nèi)壁會(huì)自動(dòng)生成能自修防腐保護(hù)膜，這樣終端出水潔凈，無(wú)‘銹水、結(jié)垢’發(fā)生，飲用水中不再含有對(duì)人身體健康有危害的重金屬離子，抑制了因輸送和使用中金屬的腐蝕而造成的“水二次污染”。YD型后置凈化過(guò)濾設(shè)計(jì)，更適合于原水懸浮物雜質(zhì)高的水質(zhì)，反沖洗過(guò)濾功能在系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)及時(shí)進(jìn)行清洗并排污，省去了傳統(tǒng)過(guò)濾器清洗時(shí)拆換濾芯的繁雜程序，操作簡(jiǎn)便可靠、運(yùn)行穩(wěn)定。

罐體組成

  硅磷晶罐主要由接管、筒體、進(jìn)出濾網(wǎng)、法蘭、法蘭蓋及緊固件等組成。安裝在自來(lái)水管道上能保證硅磷晶顆粒由出水口流入管道中。使機(jī)器設(shè)備（包括加熱社備、泵等）、儀表能正常工作和運(yùn)轉(zhuǎn)，使硅磷晶穩(wěn)定溶解，保障安全生產(chǎn)的作用。



適用范圍
硅磷晶罐具有結(jié)構(gòu)緊湊、過(guò)濾能力大、壓損小、適用范圍廣、維護(hù)方便、等優(yōu)點(diǎn)，其主要適用的物料有：
1、化工、石油化工生產(chǎn)中弱腐蝕性物料，如：水、油品、氨、烴類(lèi)等
 2、化工生產(chǎn)中的腐蝕性物料，如：燒堿、純堿、碳酸、醛酸等

 使用方法

    1、打開(kāi)罐體頂部加藥口法蘭盤(pán)倒入硅磷晶體，添加量為罐體總?cè)萘康匕俜种耸?，然后將法蘭盤(pán)復(fù)原，關(guān)閉出水閥門(mén)，打開(kāi)進(jìn)水閥門(mén)，打開(kāi)罐體底部排污閥門(mén)，將硅磷晶球體由搬運(yùn)保存過(guò)程中產(chǎn)生的氧化層，碎顆粒有排污口排出。然后關(guān)閉排污口，打開(kāi)出水閥門(mén)，即可投入正常使用。
    2、硅磷晶罐通過(guò)的水溫應(yīng)低于30度，出水口加裝單向閥防止熱水倒流。當(dāng)系統(tǒng)長(zhǎng)時(shí)間停用時(shí)取出罐體中的硅磷晶，風(fēng)干后存放。

五、設(shè)備安裝說(shuō)明：

    設(shè)備需用膨脹螺栓3條將設(shè)備支腿支座固定在基礎(chǔ)臺(tái)面上。設(shè)備基礎(chǔ)臺(tái)為混凝土砼制，混凝土基礎(chǔ)臺(tái)平面尺寸為圓形或正方形。圓形直徑為上表中Φ數(shù)值加200mm。正方形邊長(zhǎng)為Φ數(shù)值加200mm。混凝土基礎(chǔ)臺(tái)高150mm。
 
   安裝步驟及要求：
   1．首先應(yīng)檢查設(shè)備外觀是否有損壞，如檢查無(wú)異常，再進(jìn)行安裝。本設(shè)備要求安裝在室內(nèi)。
   2．設(shè)備應(yīng)安裝在制作好的混凝土基礎(chǔ)平臺(tái)上，用設(shè)備無(wú)須與混凝土基礎(chǔ)平臺(tái)固定。
   3．設(shè)備安裝形式應(yīng)為旁通式安裝，以滿足在不停機(jī)狀態(tài)下加裝歸麗晶藥劑的需要。
   4．設(shè)備主體**大外徑距墻體距離不小于1000mm，設(shè)備間距離不小于1500mm。
   5．設(shè)備維修距離不小于500mm。
   6．設(shè)備進(jìn)出口的管道上，應(yīng)以靠近管口處設(shè)置管道支架；直接與容器管口相連接的大于或等于DN150的閥門(mén)下面宜設(shè)置支架。
   7．設(shè)備進(jìn)水口、出水口、旁通管均需加裝閥門(mén)。
   8．BTDR-15、25、40、50FZ型設(shè)備與管道采用螺紋連接，BTDR-65、80、100、125、150FZ型設(shè)備與管道采用法蘭連接。
技術(shù)指標(biāo)
  1.適用介質(zhì)：自來(lái)水、冷卻水、工業(yè)用水、地下水，總硬度≤ 650mg/L(CaCO3)；
  2.壓力損失：＜0.007～0.05Mpa；
  3.工作環(huán)境溫度：≤55℃；
  4.被處理介質(zhì)溫度：≤30℃；      
  5.設(shè)備出水加熱溫度；
  6.低運(yùn)行壓力：0.1Mpa(特殊安裝應(yīng)用低壓-0.07Mpa), 高運(yùn)行壓力:(標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備)0.6Mpa;
  7.反沖洗壓力：＞0.2Mpa.